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半導体デバイス製造技術基礎セミナー2021を開催します

2021/12/16、オンラインライブ配信セミナー「半導体デバイス製造技術基礎セミナー2021」を開催します。本セミナーは、半導体デバイス製造技術の基礎として、CMOS プロセス、メモリデバイス、ロ

ジックデバイスを概説し、さらに後工程技術に関しても幅広く説明します。専門技術であるCMP に留まらず、半導体デバイス製造技術を理解する入門講座としておすすめのセミナーです。募集人数は80名ですので、お早めにお申し込みください。お申し込みはこちらからどうぞ。

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2023/12/1(金)13:00より、プラザエフにて第211回研究会「CMPの周辺技術(帰ってきた会員の会員による会員のための研究会)」を開催しますので、奮ってご参加ください。なお、翌週12/8(金)13:00に予定しておりました3次元積層造形後処理加工技術研究分科会(3DP-RC)第9回研究会「金属積層造形の最先端と複雑形状に対する研磨技術」(金沢大学 角間キャンパス)は延期となりました。詳細

2023/8/3(木)13:00より、プラザエフにて第208回研究会「今、聞きたい半導体技術」を開催しますので、奮ってご参加ください。オンライン(Zoom meeting)でのご参加も受け付けますが、講師皆様は会場に来ていただける予定ですので、皆様ぜひ会場にお越しください。参加申し込みはこちらから参加登録を行って頂くか、リンク先案内の申込み用紙にご記入の上、事務局までお送り下さい。多くの皆様の参加

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