【更新】2021 CMP WEBINARを開催します→受付終了

更新日:2021年7月16日

2021/7/16 好評につき定員に達しました。参加申込受付は終了しますので、ご了承ください。


2021/8/27、28の2日間、従来のサマーキャンプに代え、オンラインライブ配信セミナー「2021 CMP WEBINAR」を開催します。半導体製造前工程におけるCMP技術をCMPの原理、プロセス、装置、材料、 洗浄・クリーン化技術そして、産業動向の6つの観点より基礎から応用まで幅広く説明します。初心者はもちろんCMP技術を理解する入門講座としておすすめのセミナーです。募集人数は50名ですので、お早めにお申し込みください。

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2022/4/28 14:00よりオンラインにて第198回研究会「研磨技術の新展開とその応用例」を開催しますので、奮ってご参加ください。参加申し込みはオンライン参加登録を行って頂くか、リンク先案内の申込み用紙にご記入の上、事務局までお送り下さい。多くの皆様の参加申込をお待ちしております。

2022/3/4 14:00より第196回研究会「総会・特別講演会」を開催します。当初、プラザエフにてオンサイト開催(研究会修了後に名刺交換会を開催)としオンラインでも参加可能なハイブリッド形式にて開催準備を進めて参りましたが、東京での蔓延防止措置が3月6日まで延長されたことを鑑み、オンラインでのみ開催することに変更となりました(2/17変更)。参加申し込みはオンライン参加登録を行って頂くか、リン

2021/12/10 13:00よりオンラインにて第195回研究会「リソグラフィ技術の現在と未来」を開催しますので、奮ってご参加ください。参加申し込みはオンライン参加登録を行って頂くか、リンク先案内の申込み用紙にご記入の上、事務局までお送り下さい。多くの皆様の参加申込をお待ちしております。